350納米製程
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半導體製程
10 µm
– 1971年
6 µm
– 1974年
3 µm
– 1977年
1.5 µm
– 1982年
1 µm
– 1985年
800 nm
– 1989年
600 nm
– 1994年
350 nm
– 1995年
250 nm
– 1997年
180 nm
– 1999年
130 nm
– 2001年
90 nm
– 2004年
65 nm
– 2006年
45 nm
– 2008年
32 nm
– 2010年
22 nm
– 2012年
14 nm
– 2014年
10 nm
– 2017年
7 nm
– 2018年
5 nm
– ~2020年
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350納米製程
係
半導體製程
嘅一個水平,約莫喺1995年達成,由嗰時領先嘅半導體公司
英特爾
同
IBM
完成。
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